Startup asal Rusia telah memperkenalkan proyek lithograph elektronik multipath yang bertujuan untuk memproduksi mikrochip modern dengan kecepatan yang jauh lebih tinggi dibandingkan sebelumnya.
Teknologi inti dari proyek ini adalah multicathode yang mampu menghasilkan beberapa sinar elektron secara bersamaan. Para insinyur sudah membangun dan mengujinya, dan hasilnya cukup menjanjikan.
Para pengembang menyebutkan bahwa perangkat ini dapat mengekspos wafer silikon dalam waktu sekitar lima sampai tujuh menit, berbeda jauh dengan satu hingga dua minggu yang dibutuhkan oleh mesin sinar tunggal yang lebih tua.
Terobosan Multicathode
Evgeny Givargizov, pengembang utama proyek ini, menyatakan, “Kami telah mengembangkan teknologi end-to-end untuk menciptakan multicathode dan mengkonfirmasi keberfungsian teknologi ini dalam praktik.” Dia menambahkan bahwa array sumber elektron ini adalah salah satu yang paling tajam yang pernah diproduksi, dengan radius ujung hanya 1,5 hingga 2 nanometer.
Berbeda dengan banyak sistem multipath asing yang mengandalkan optik pembagi sinar yang kompleks dengan cermin dan tirai, desain Rusia ini menciptakan sumber independen langsung pada satu substrat. Pendekatan ini dapat mengurangi kompleksitas teknik, menurunkan konsumsi energi, dan memangkas biaya peralatan dibandingkan dengan sistem lithography sinar tunggal konvensional.
Proyek ini pertama kali diperkenalkan kepada publik di forum Strong Ideas for Modern Times, di mana para peneliti menjelaskan fase penelitian yang telah diselesaikan.
Multicathode yang telah dikembangkan dan diuji ini hanyalah salah satu komponen dari mesin lithography yang direncanakan. Pihak berwenang menjelaskan bahwa mesin lithography yang jadi belum ada, karena saat ini hanya tahap penelitian ilmiah yang berhasil.
Fase pengembangan selanjutnya diharapkan akan berfokus pada pembangunan mesin lithograph lengkap yang mengelilingi sumber multicathode yang telah tervalidasi.
Jalan Panjang Menuju Penggunaan Industrial
Sergey Sazonov, seorang ahli mikroelektronik di Inisiatif Teknologi Nasional Rusia, menyebutkan bahwa konsep ini menjanjikan jika kontrol multicathode terbukti handal secara skala. Dia menyatakan, “Teknologinya terlihat menarik dan menjanjikan, namun masih banyak kerja yang harus dilakukan sebelum alternatif industrial muncul.”
Ahli teknik Sergey Varnavsky memberikan pandangan lebih hati-hati, dengan mencatat bahwa saat ini hanya komponen multicathode yang ada dalam bentuk yang berfungsi. Ia memperingatkan bahwa penundaan pendanaan yang berkepanjangan dapat memungkinkan teknologi pesaing di luar negeri berkembang lebih jauh sebelum mesin lithograph yang selesai siap diproduksi.
Namun, dia menyarankan bahwa kompetisi yang terbatas dalam pasar domestik Rusia masih bisa menciptakan permintaan di kalangan produsen chip dan papan sirkuit lokal.
Varnavsky mencatat bahwa keberhasilan keseluruhan sangat tergantung pada keberlangsungan pendanaan di setiap tahap tersisa dari pengujian proyek ini. Para pengembang memperkirakan bahwa prototipe yang berfungsi bisa mengambil waktu sekitar tiga tahun untuk dibangun, mencakup standar chip dari 350 nm hingga beberapa nanometer.
Menurut tim tersebut, resolusi maksimum saat ini tergantung pada ketersediaan bahan photoresist daripada pada sumber sinar elektron itu sendiri. Hal ini menunjukkan bahwa peningkatan resolusi di masa depan mungkin masih bergantung pada kemajuan ilmu bahan ketimbang terobosan lebih lanjut dalam optik elektron.
Saat ini, multicathode masih menjadi hasil laboratorium yang menjanjikan dan belum membuktikan bahwa Rusia dapat bersaing dengan pemimpin peralatan pembuatan chip yang sudah mapan seperti IMEC.
